申请/专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

申请日：2022-02-28

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN114771111B

主分类号：B41J11/00

分类号：B41J11/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2022.08.09#实质审查的生效;2022.07.22#公开

摘要：本申请公开了一种真空干燥装置、基板真空干燥方法及真空干燥设备。真空干燥装置包括：底座，干燥室，包括设于底座的腔室以及与腔室活动连接的腔门，腔室设有容纳腔，腔门用于供待干燥的基板进入容纳腔；局部干燥结构，包括设于底座的驱动机构以及与驱动机构连接的干燥机构，驱动机构驱动干燥机构进入容纳腔对基板进行局部干燥；干燥机构包括与驱动机构连接底板、设于底板的定位器和干燥器，驱动机构驱动干燥器对目标区域进行干燥，所述目标区域为所述定位器定位的所述基板上溶液未干的区域。本申请实施例中通过局部干燥结构定位溶液未干的目标区域进行局部干燥，减少甚至杜绝由于溶液未干而引起的VCDmura，可以极大提高产品良率。

主权项：1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括：底座，干燥室，包括设于所述底座的腔室以及与所述腔室活动连接的腔门，所述腔室设有容纳腔，所述腔门用于供待干燥的基板进入所述容纳腔；局部干燥结构，包括设于所述底座的驱动机构以及与所述驱动机构连接的干燥机构，所述驱动机构驱动所述干燥机构进入所述容纳腔对所述基板进行局部干燥；所述干燥机构包括与所述驱动机构连接的底板、设于所述底板的定位器和干燥器，所述驱动机构驱动所述干燥器对目标区域进行干燥，所述目标区域为所述定位器定位的所述基板上溶液未干的区域，所述定位器包括至少一个摄像机，所述目标区域根据所述摄像机按照目标运动轨迹移动时所述摄像机获取的所述待干燥的基板的图像信息确定，所述目标运动轨迹根据预设的运动轨迹与基板信息的对应关系以及所述待干燥的基板的目标基板信息确定。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 真空干燥装置、基板真空干燥方法及真空干燥设备

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