申请/专利权人：凤阳硅谷智能有限公司

申请日：2023-07-21

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN220642927U

主分类号：C03C17/00

分类号：C03C17/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权

摘要：本实用新型公开了一种用于制备高平整度超薄镀膜玻璃的镀膜装置，其特征在于，所述的镀膜装置包括：载具和设置于所述载具中的镀膜槽；所述的镀膜槽中还设置有若干气孔；镀膜时：所述的镀膜槽用于放置超薄玻璃，且所述镀膜槽的深度与所述超薄玻璃的厚度一致。本实用新型提供的镀膜装置其结构设计相当简单，在玻璃镀膜过程中使用该镀膜装置作为辅助工具可保证镀膜效果均匀、镀膜面平整度高，解决了现有直接辊涂方式容易导致镀膜层厚度不均匀、平整度差的问题，从而避免了因镀膜面不均匀而导致的后续玻璃烧结、钢化过程中容易发生翘曲的问题。

主权项：1.一种用于制备高平整度超薄镀膜玻璃的镀膜装置，其特征在于，所述的镀膜装置包括：载具1和设置于所述载具1中的镀膜槽1-1；所述的镀膜槽1-1中还设置有若干气孔1-2；镀膜时：所述的镀膜槽1-1用于放置超薄玻璃2，且所述镀膜槽1-1的深度与所述超薄玻璃2的厚度一致。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 凤阳硅谷智能有限公司 一种用于制备高平整度超薄镀膜玻璃的镀膜装置

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