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【发明公布】一种光学散射测量中结构参数初值确定方法_武汉颐光科技有限公司_202311599127.5 

申请/专利权人:武汉颐光科技有限公司

申请日:2023-11-24

公开(公告)日:2024-03-26

公开(公告)号:CN117760321A

主分类号:G01B11/06

分类号:G01B11/06;G01B9/04

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.12#实质审查的生效;2024.03.26#公开

摘要:本发明提供一种光学散射测量中结构参数初值确定方法,对浮动参数进行均匀撒点建库;对于一组测量光谱,拟合之前将测量光谱与库中的每一条光谱求MSE,取得MSE最小的多组光谱所对应的多组浮动参数值;将多组浮动参数值分别代入到形貌Sample中,采用LM非线性回归方法迭代拟合得到拟合光谱,拟合后MSE最小的拟合光谱对应的浮动结构参数作为后续正式拟合求解时的初值,代入到形貌Sample中去做后续拟合求解。该方法很好地解决了实际光学散射测量拟合时某些模型对初值特别敏感而造成陷入局部最优的问题。

主权项:1.一种光学散射测量中结构参数初值确定方法,其特征在于,包括:对浮动结构参数进行均匀撒点,构建光谱库,所述光谱库中包括多组浮动结构参数组合和每一组浮动结构参数组合对应的正向建模光谱;获取待测样件的测量光谱,在拟合之前,计算所述测量光谱与所述光谱库中的每一条正向建模光谱之间的均方根误差MSE,获取MSE最小的多条正向建模光谱对应的多组浮动结构参数值;将每一组浮动结构参数值分别代入到待测样件的形貌sample中,基于LM非线性回归方法迭代拟合得到拟合光谱,获得每一组浮动结构参数值对应的拟合光谱;计算每一组拟合光谱与所述测量光谱之间的均方根误差MSE,将与所述测量光谱之间的MSE最小的拟合光谱对应的浮动结构参数值确定为浮动结构参数初值。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉颐光科技有限公司 一种光学散射测量中结构参数初值确定方法

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