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【发明授权】一种Sc单原子桥连g-C3N4/MoSe2异质结催化材料的制备方法及应用_华北电力大学_202311209467.2 

申请/专利权人:华北电力大学

申请日:2023-09-19

公开(公告)日:2024-03-26

公开(公告)号:CN117358266B

主分类号:B01J27/057

分类号:B01J27/057;C02F1/30;C02F1/72;B01J27/24;B01J35/39;C02F101/36;C02F101/34

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.03.26#授权;2024.01.26#实质审查的生效;2024.01.09#公开

摘要:本发明属于环境工程技术领域,提供了一种Sc单原子桥连g‑C3N4MoSe2异质结催化材料的制备方法及应用。将Sc单原子引入具有二维片层结构g‑C3N4MoSe2异质结界面间通过配位键形成单原子桥连异质结。Se‑Sc‑N桥连结构形成隧穿效应,能有效提高g‑C3N4MoSe2异质结界面间电荷迁移速率;Sc单原子的非对称的配位环境还能有效的调控其d带中心位置,并形成表面驰豫现象,提高其对H2O2分子的吸附能力,并引起局域原子空间的变化,强化单原子桥连处异质结界面间的电子迁移能力,进而强化Sc位点活化H2O2结构能力,降低其向·OH转化的反应能垒,增加类芬顿催化活性。

主权项:1.一种Sc单原子桥连g-C3N4MoSe2异质结催化材料的制备方法,其特征在于,步骤如下:步骤1:制备改性g-C3N4材料;步骤2:制备二维片层MoSe2材料;步骤3:将步骤1中制备的改性g-C3N4和步骤2中制备的MoSe2加入到乙醇溶液中超声30min,其中,改性g-C3N4材料与二维片层MoSe2材料的投加质量比为40:1-5:1,改性g-C3N4材料与二维片层MoSe2材料的投加量分为1-5mgmL和0.1-1mgmL,超声之后,向溶液中加入硝酸钪,控制二维片层MoSe2与硝酸钪投加质量比为5:1-1:1,硝酸钪的投加量为0.025-0.25mgmL,搅拌30min;之后,将溶液放入鼓风干燥箱中,以60℃干燥,待干燥后将固体研磨均匀得到黄绿色粉末,用于后续煅烧;步骤4:将步骤3中得到的研磨后黄绿色粉末放入瓷舟内,放入管式炉中煅烧,反应气氛为N2,反应温度300-400℃,反应时间0.5-3h,反应结束后待产物自然冷却至室温,将粉末放入去离子水中,超声10min,再经抽滤得到浅绿色粉末固体,用无离子水和乙醇交替清洗3次,将固体放入真空烘箱中35℃干燥,得到Sc单原子桥连g-C3N4MoSe2异质结催化材料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华北电力大学 一种Sc单原子桥连g-C3N4/MoSe2异质结催化材料的制备方法及应用

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