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【发明公布】一种反式十氢化萘吲哚类液晶化合物及其制备方法_西安瑞联新材料股份有限公司_202311806399.8 

申请/专利权人:西安瑞联新材料股份有限公司

申请日:2023-12-26

公开(公告)日:2024-03-29

公开(公告)号:CN117778029A

主分类号:C09K19/34

分类号:C09K19/34

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要:本发明属于液晶材料技术领域,涉及一种反式十氢化萘吲哚类液晶化合物及其制备方法。本发明提供了一种反式十氢化萘吲哚类液晶化合物,具有如式Ⅰ所示的化学结构式。式Ⅰ化合物的制备包括式Ⅱ化合物通过格氏反应得到式Ⅲ化合物,式Ⅲ化合物氧化得到式Ⅳ化合物,式Ⅳ化合物通过费歇尔吲哚合成反应得到式Ⅰ化合物。本发明的制备方法操作简单,产品收率和纯度高,制备的反式十氢化萘吲哚类液晶化合物可应用于特种液晶材料。

主权项:1.一种反式十氢化萘吲哚类液晶化合物,具有如式Ⅰ所示的化学结构式: 式Ⅰ化合物中Fm表示氟取代,m表示氟取代个数,m的取值为1或2,R为C3~C7直链烷基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安瑞联新材料股份有限公司 一种反式十氢化萘吲哚类液晶化合物及其制备方法

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