申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2022-08-15

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117795639A

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32;H03H7/01

优先权：["20210914 US 17/475,223"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本文提供的实施例大体包括用于减缓失真电流的装置、等离子体处理系统和方法。示例等离子体处理系统包括耦合至输入节点的电压源，输入节点耦合至设置在处理腔室内的电极，其中电压源被配置为在输入节点处产生脉冲电压信号；具有输出的信号产生器，其中RF信号产生器被配置为将第一RF频率的第一RF信号传送到输入节点；耦合在信号产生器的输出与输入节点之间的带通滤波器，其中带通滤波器被配置为使在包括第一RF信号的第一RF频率的频率范围之外的第二RF信号衰减；以及耦合在带通滤波器与输入节点之间的阻抗匹配电路。

主权项：1.一种处理基板的方法，包括：通过电压源在耦合至设置在处理腔室内的电极的输入节点处产生脉冲电压信号；以及通过射频RF等离子体产生器至少通过带通滤波器将第一RF信号传送到所述输入节点，其中：所述第一RF信号包括第一RF频率，所述带通滤波器设置在所述RF等离子体产生器与所述输入节点之间，阻抗匹配电路设置在所述带通滤波器与所述输入节点之间，并且所述带通滤波器被配置为使在包括所述第一RF信号的所述第一RF频率的频率范围之外的第二RF信号衰减。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 射频等离子体处理腔室中的失真电流减缓

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