申请/专利权人：北京空间机电研究所

申请日：2024-01-17

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117784413A

主分类号：G02B27/00

分类号：G02B27/00

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.03.29#公开

摘要：一种自由曲光学系统鬼像分析及消除方法，包括以下步骤：S1、初步计算明亮鬼像产生的表面；S2、获得准确的光学系统及探测器的表面特性参数；S3、在杂散光分析软件中准确建立鬼像分析模型；S4、分析鬼像的大小及能量，计算鬼像与主像的能量比值；S5、通过计算分析，判定鬼像是否影响成像；S6、采用自由曲面系数预置优化法消除明亮鬼像的影响。本发明在设计阶段实现了自由曲面光学系统产生的明亮鬼像的定位及消除，快速而准确的实现明亮鬼像定位及消除，大大提高自由曲面光学系统的成像质量，普适性强。

主权项：1.一种自由曲光学系统鬼像分析及消除方法，其特征在于，包括：选取视场，计算选取的各个视场的光线入射到自由曲面表面的入射角，并根据预设判定条件确定产生明亮鬼像的表面的初始定位结果；对各个视场光线进行光线追迹，并计算各视场光线在所述初步定位结果中的各表面产生的鬼像的大小及能量，以及计算鬼像与主像的能量比值；确定光学系统目标景物的最大及最小辐射亮度区间，根据计算的鬼像与主像的能量比值，以及所述最大及最小辐射亮度区间判断最亮目标景物产生的鬼像是否能够被探测器识别；若能识别，则对影响成像的明亮鬼像对自由曲面各项参数进行优化。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京空间机电研究所 一种自由曲光学系统鬼像分析及消除方法

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