申请/专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司

申请日：2023-12-22

公开（公告）日：2024-03-29

公开（公告）号：CN117784303A

主分类号：G02B5/08

分类号：G02B5/08

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开

摘要：本发明公开了一种HUD高反射膜，包括PC基层、高反介质层以及设于PC基层与高反介质层之间的镀铬层和镀铝层，所述镀铬层与所述PC基层连接，所述镀铝层与高反介质层连接，所述镀铬层和镀铝层之间设有共键过渡叠层。该HUD高反射膜具有结构附着力强的优点。

主权项：1.一种HUD高反射膜，包括PC基层100、高反介质层200以及设于PC基层100与高反介质层200之间的镀铬层300和镀铝层400，所述镀铬层300与所述PC基层100连接，所述镀铝层400与高反介质层200连接，其特征在于：所述镀铬层300和镀铝层400之间设有共键过渡叠层500。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 湘潭宏大真空技术股份有限公司 一种HUD高反射膜

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