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【发明公布】处理装置、处理系统、处理方法以及记录介质_株式会社理学_202311275932.2 

申请/专利权人:株式会社理学

申请日:2023-09-28

公开(公告)日:2024-04-02

公开(公告)号:CN117807347A

主分类号:G06F17/10

分类号:G06F17/10;G01N23/207

优先权:["20220930 JP 2022-157711"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.02#公开

摘要:提供一种计算包含总散射数据和结构模型的数据的结构因子的处理装置、处理系统、处理方法以及记录介质。处理结构因子的处理装置400具备:结构因子取得部410,其取得基于实测到的总散射数据的第1结构因子;数据转换部420,其将所述第1结构因子分离为短距离相关和长距离相关;以及散射强度计算部430,其取得表示有限区域内的原子排列的结构模型,计算所述结构模型的短距离散射强度,根据所述短距离散射强度和所述长距离相关来计算第2结构因子。

主权项:1.一种处理装置,是处理结构因子的处理装置,其特征在于,具备:结构因子取得部,其取得基于实测到的总散射数据的第1结构因子;数据转换部,其将所述第1结构因子分离为短距离相关和长距离相关;以及散射强度计算部,其取得表示有限区域内的原子排列的结构模型,计算所述结构模型的短距离散射强度,根据所述短距离散射强度和所述长距离相关来计算第2结构因子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社理学 处理装置、处理系统、处理方法以及记录介质

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