申请/专利权人：珠海杰赛科技有限公司;广州杰赛电子科技有限公司;中电科普天科技股份有限公司

申请日：2023-12-08

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117812823A

主分类号：H05K3/00

分类号：H05K3/00;H05K3/06;H05K1/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明公开了一种对位光学凸块的制作方法，包括：设计，在覆铜板覆感光膜后，于其预定位置设置对位光学凸块，围绕对位光学凸块设计保护环，成像显影后剥离多余的感光膜；蚀刻，将覆铜板置于蚀刻液中，使未被感光膜覆盖的铜层被蚀刻而露出基层，被感光膜覆盖的线路、对位光学凸块和保护环则留下来，在蚀刻的过程中，对位光学凸块的侧面在保护环的围绕下，对位光学凸块的侧面腐蚀程度小于保护环的腐蚀程度；后处理，将蚀刻完成的线路板进行阻焊操作和印字符操作，在对位光学凸块周围增加保护环保护对位光学凸块，蚀刻时因对位光学凸块周围有保护环，蚀刻出来后对位光学凸块无残缺，真圆度高，便于CCD抓取对位。

主权项：1.一种对位光学凸块的制作方法，其特征在于，包括：设计，在覆铜板覆感光膜后，于其预定位置设置对位光学凸块100，围绕对位光学凸块100设计保护环200，成像显影后剥离多余的感光膜；蚀刻，将覆铜板置于蚀刻液中，使未被感光膜覆盖的铜层被蚀刻而露出基层，被感光膜覆盖的线路、对位光学凸块100和保护环200则留下来，在蚀刻的过程中，对位光学凸块100的侧面在保护环200的围绕下，对位光学凸块100的侧面腐蚀程度小于保护环200的腐蚀程度；后处理，将蚀刻完成的线路板进行阻焊操作和印字符操作。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 珠海杰赛科技有限公司;广州杰赛电子科技有限公司;中电科普天科技股份有限公司 一种对位光学凸块的制作方法

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