申请/专利权人：华中科技大学

申请日：2023-12-07

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117805505A

主分类号：G01R29/12

分类号：G01R29/12;G01R29/14;G06F17/18

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本发明提供了一种瞬态电场非介入式测量系统及电场空间分布反演方法，属于电场测量领域，方法包括：将待测电场置于待测轴对称电场区域中，调整半波片，使基频激光偏振方向分别与各电场分量方向一致；触发激光源发射基频激光，记录各电场分量诱导产生的二次谐波信号序列；基于修正后的标定系数，结合二次谐波信号序列和电场最小二乘的计算残差方程，采用最优化方法计算电场分布；本发明可以便捷、精确地获得瞬态空间电场，具有更广泛的应用范围。

主权项：1.一种瞬态电场非介入式测量系统，其特征在于，包括：在待测轴对称电场区域一侧从远到近顺次排列的激光源、半波片、第一光电倍增管阵列、第一二向色镜阵列和第一聚焦透镜阵列，在待测轴对称电场区域另一侧从近到远顺次排列的第二聚焦透镜阵列、第二二向色镜阵列和第二光电倍增管阵列，以及信号处理模块；所述激光源用于产生脉冲频率固定的基频激光；所述半波片用于调节基频激光偏振方向；待测轴对称电场区域用于施加电场，使基频激光与电场不同方向分量作用产生对应电场分量的二次谐波信号；所述第一光电倍增管阵列和第二光电倍增管阵列用于采集二次谐波信号；所述第一二向色镜阵列和第二二向色镜阵列用于透射二次谐波信号，反射基频激光；第一二向色镜阵列和第二二向色镜阵列中设置反射电路，使基频激光多次往返穿过待测轴对称电场区域；所述第一聚焦透镜阵列和第二聚焦透镜阵列用于汇聚射入待测轴对称电场区域的基频激光或二次谐波信号；所述信号处理模块用于在修正标定系数过程中，根据二次谐波信号序列以及电场最小二乘的计算残差方程，采用最优化方法计算电场位形最大电场分量方向上的分量，结合圆形平行板电极在待测轴对称电场区域中产生的均匀场强，修正标定系数；同时用于基于修正后的标定系数，结合两个电场分量诱导产生的二次谐波信号序列以及电场最小二乘的计算残差方程，计算电场分布。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华中科技大学 一种瞬态电场非介入式测量系统及电场空间分布反演方法

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