申请/专利权人：华中科技大学

申请日：2023-04-06

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN116462795B

主分类号：C08F220/36

分类号：C08F220/36;G03F7/00;C08F220/18;C08F220/20;G03F7/038;G03F7/004

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2023.08.08#实质审查的生效;2023.07.21#公开

摘要：本发明属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种成膜树脂、化学增幅型紫外正性光刻胶及其使用方法。本发明提出的化学增幅型紫外正性光刻胶成膜树脂包括成膜树脂、对苯磺酸苄酯类化合物光产酸剂和有机溶剂。该光刻胶含有双重光响应单元，大大加快链式反应进程，双重光敏单元在光辐照下产生成倍的酸，大量的酸催化聚合物分子链中的酸敏单元发生反应，脱去保护基团，从而溶解于碱性显影液中，曝光部分与非曝光部分产生溶解反差，催化完成后重新释放出酸，而释放出的酸又能继续催化聚合物发生变化，通过链式反应来降低体系曝光所需能量，从而大幅度提高了光刻胶的光敏感度。

主权项：1.一种化学增幅型紫外正性光刻胶，其特征在于，包括光产酸剂、有机溶剂和成膜树脂；所述成膜树脂为由甲基丙烯酸酯类酸敏单体、极性单体和光响应单体通过自由基聚合反应制成；其中，所述酸敏单体选自甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸柏木酯和甲基丙烯酸氢化松油酯；所述极性单体选自甲基丙烯酸-2-羟基乙酯和3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯；所述光响应单体选自4，5-甲氧基甲基丙烯酸邻硝基苄酯、甲基丙烯酸邻硝基苄酯、甲基丙烯酸对硝基苄酯、4-甲氧基甲基丙烯酸邻硝基苄酯和1，3-硝基甲基丙烯酸苄酯；所述光产酸剂具有如下式二至式七中任一种的结构： 式二至式七中OR为碳数为1～10的烷氧基链；使用时，以所述光产酸剂和所述成膜树脂中的光响应单体为双重光响应单元，所述双重光响应单元在光辐照下产生酸，所述酸催化所述成膜树脂中的酸敏单体发生反应，脱去保护基团，进一步释放出酸，从而使其能够溶解于碱性显影液中；而释放出的酸又能继续催化所述成膜树脂中的酸敏单体发生反应，通过链式反应降低体系曝光所需能量，从而提高该光刻胶的光敏感度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华中科技大学 一种成膜树脂、化学增幅型紫外正性光刻胶及其使用方法

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