申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2023-12-27

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117474922B

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00;G06T5/70;G06T7/50;G06T7/593;G06T7/66

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权;2024.02.20#实质审查的生效;2024.01.30#公开

摘要：本发明涉及光场成像的技术领域，具体提供基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统，方法包括：获取光场原始图像；采用光场参数化，为角坐标，为空间坐标，输入光场中的每个像素并基于候选深度标签重新映射到剪切光场；根据剪切光场，判断遮挡类型；若遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图；采用多种滤波策略，对初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图。因此，本发明基于场景立体模型得到的遮挡图用于遮挡检测，以提高遮挡检测的精确度；提升算法对噪声和遮挡的适应能力，提高了光场深度估计的精度。

主权项：1.一种基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法，其特征在于，包括：S1.获取光场原始图像；S2.对所述光场原始图像进行光场参数化，为角坐标，为空间坐标，输入光场中的每个像素并基于候选深度标签重新映射到剪切光场；S3.根据所述剪切光场，判断遮挡类型；S4.若所述遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若所述遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；S5.根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图，所述成本量包括所述部分角度域成本量或所述自适应角度域成本量；S6.采用多种滤波策略，对所述初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图；在所述S4中，若所述遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量包括：使用线型掩膜来获取所需的角度域像素，对所有空间点的角度域像素在不同方向上进行相关性度量的公式如下： （8）；其中，是一个3D的二值掩膜矩阵，是掩膜矩阵的下标，表示不同类型的掩膜矩阵，控制矩阵的第三维的层数；为了进一步控制对噪声的鲁棒性，使用类高斯函数得到部分角度域的代价函数的公式如下： （9）；其中控制对噪声的敏感性；在所述S4中，所述若所述遮挡为块遮挡，构造自适应角度域成本量包括：使用块状掩膜来获取所需的角度域像素；对所有空间点的角度域像素在不同子区域上进行相关性度量的公式如下， （11）；其中，是一个3D的二值掩膜矩阵，用来定义一子区域的角度域图像像素参与运算；是掩膜矩阵的下标，表示不同类型的掩膜矩阵，控制角度域图像分成所述子区域的个数；计算每种块状掩膜不同角度域像素的相关系数，为实现个所述子区域相关系数的权重融合，使用高斯形式的权重函数，公式如下： （12）； （13）；其中控制权重系数大小，其值越大对噪声的鲁棒性越高，是各个所述子区域的权重的阈值；根据所述权重函数将个所述子区域进行融合： （14）；使用类高斯函数归一化自适应角度域的代价函数的公式如下： （15）；其中控制对噪声的敏感性。

全文数据：

权利要求：

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