申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

申请日：2022-09-30

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117855016A

主分类号：H01J37/244

分类号：H01J37/244;H01J37/317

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明实施例提供了一种离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备，其中，离子注入检测设备包括：检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部，以改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中。本发明实施例可以实现对离子束入射角度的检测。

主权项：1.一种离子注入检测设备，其特征在于，包括：磁透镜，用于调整离子束的形状；检测模组，所述检测模组包括至少一个检测单元，所述检测单元用于检测射入所述检测单元的离子流量；位于所述检测模组上的阻挡模组，所述阻挡模组包括至少一个阻挡部和至少一个转动部，其中，所述阻挡部用于至少覆盖一检测单元，所述转动部连接所述阻挡部，用于改变所述阻挡部覆盖所述检测单元的角度；与所述阻挡模组耦接的控制模组，所述控制模组用于控制所述转动部的转动角度，使得所述检测单元基于所述阻挡部的覆盖角度，至少部分暴露于离子注入环境中；支撑装置，用于驱动所述检测模组进行一维或二维移动；信号采集装置，用于采集各检测单元中的检测信号。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 离子注入检测设备、方法、装置及计算机设备

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