申请/专利权人：湖北兴福电子材料股份有限公司

申请日：2023-11-22

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117844485A

主分类号：C09K13/08

分类号：C09K13/08;H01L21/311

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明提供了一种缓冲氧化物蚀刻液及其在栅极氧化层侧壁修饰中的应用，该蚀刻液包括氢氟酸、氟化铵、表面活性剂、增稠剂以及超纯水；其中表面活性剂为异构醇聚氧乙烯醚；增稠剂为对称型多元醇醚。本发明使用的表面活性剂因其特殊结构使其在含氟体系中具有良好的溶解度和分散性，同时获得低的表面张力和低泡性能，保证栅极氧化层侧壁表面的清洗效果和均一性。增稠剂由于其高粘度的特性，进一步修饰平滑侧壁形貌，抑制了侧壁的过度腐蚀。该蚀刻液可以有效抑制栅极氧化层的侧向腐蚀，同时保证侧壁的完整和平滑。

主权项：1.一种缓冲氧化物蚀刻液，其特征在于：按质量百分比计，该蚀刻液中含有0.1-5%的氢氟酸、15-35%的氟化铵、0.01-1%的表面活性剂和0.01-2%的增稠剂，余量为水；其中表面活性剂为异构醇聚氧乙烯醚；增稠剂为对称型多元醇醚。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 湖北兴福电子材料股份有限公司 缓冲氧化物蚀刻液及其在栅极氧化层侧壁修饰中的应用

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