申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2023-12-18

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117848523A

主分类号：G01J9/00

分类号：G01J9/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：一种光场波前测量装置，包括：第一分束器，用于将光源提供的光束分成射向光束截止器的第一光束和射向待测元件的第二光束；或者，用于将待测光束反射后作为第二光束反射至第二分束器；第二分束器，用于将经所述第一分束器反射后的第二光束分成射向第一成像系统的取样光束和射向编码板，并经该编码板衍射后射向第二成像系统的第三光束；电脑，分别与所述第一成像系统和第二成像系统相连，用于从所述第一成像系统中获取取样光束焦点的平面坐标，并利用所述第二成像系统采集的所述第三光束的衍射光斑，重建待测元件或者待测光束的复振幅分布。本发明可用于激光装置大口径光学元件和高能脉冲光束多参数精密测量。

主权项：1.一种光场波前测量装置，其特征在于，包括：第一分束器，用于将光源提供的光束分成射向光束截止器的第一光束和射向待测元件的第二光束，并将经所述待测元件透射后经反射镜反射、待测元件透射后的第二光束反射至第二分束器；或者，用于将待测光束反射后作为第二光束反射至第二分束器；第二分束器，用于将经所述第一分束器反射后的第二光束分成射向第一成像系统的取样光束和射向编码板，并经该编码板衍射后射向第二成像系统的第三光束；编码板，用于对所述第三光束进行编码和解调；第一成像系统，用于采集所述取样光束的光斑；第二成像系统，与所述第一成像系统共轭，用于记录所述第三光束的衍射光斑；电脑，分别与所述第一成像系统和第二成像系统相连，用于从所述第一成像系统中获取取样光束焦点的平面坐标，并利用所述第二成像系统采集的所述第三光束的衍射光斑，重建待测元件或者待测光束的复振幅分布。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 光场波前测量装置和测量方法

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