申请/专利权人：司百诺光电科技(苏州)有限公司

申请日：2024-02-22

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117850014A

主分类号：G02B21/02

分类号：G02B21/02;G02B27/28;G02B27/09

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本申请提供一种成像系统的制备方法、相位调制单元、相位调制模组及元件的组合。该制备方法包括提供初始成像系统；其中，初始成像系统包括光源、第一透镜组、第二透镜组、成像面，其中，第一透镜组具有第一焦距，第二透镜组具有第二焦距，经第一透镜组出射的光线平行传播至第二透镜组，第二透镜组的后焦面与成像面重合或基本重合；提供相位调制单元；获取相位调制单元在初始成像系统中的作用位置；其中，作用位置被配置为使相位调制单元所在的平面与光源所在的平面为一对共轭面，并且使相位调制单元至第一透镜组在光轴上的第一距离、第二透镜组至相位调制单元在光轴上的第二距离、第一焦距、第二焦距不全相同；将相位调制单元设置在作用位置。上述制备方法可丰富成像系统的成像效果，且无需对原有的成像光路进行过多调整，可大大降低制备成本。

主权项：1.一种成像系统的制备方法，其特征在于，包括：提供初始成像系统；其中，所述初始成像系统沿着光轴由物侧至像侧依序包括光源、第一透镜组、第二透镜组、成像面，其中，所述第一透镜组具有第一焦距，所述第二透镜组具有第二焦距，经所述第一透镜组出射的光线平行传播至所述第二透镜组，所述第二透镜组的后焦面与所述成像面重合或基本重合；提供相位调制单元；获取所述相位调制单元在所述初始成像系统中的作用位置；其中，所述作用位置被配置为，使所述相位调制单元所在的平面与所述光源所在的平面为一对共轭面，并且使所述相位调制单元至所述第一透镜组在所述光轴上的第一距离、所述第二透镜组至所述相位调制单元在所述光轴上的第二距离、所述第一焦距、所述第二焦距不全相同；将所述相位调制单元设置在所述作用位置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 司百诺光电科技(苏州)有限公司 成像系统的制备方法、相位调制单元、相位调制模组及元件的组合

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