申请/专利权人：河北工业大学

申请日：2023-12-25

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117838898A

主分类号：A61L2/14

分类号：A61L2/14;H05H1/24;A61L2/26

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明涉及等离子体技术领域，尤其涉及一种同轴脉冲梯形磁场调控等离子体射流的处理装置，包括气液控制模块、等离子体发生模块、脉冲梯形磁场发生模块、电源激励模块、同步控制器及等离子体处理模块，脉冲梯形磁场发生模块与等离子体发生模块相连，用于产生参数可调的同轴脉冲梯形磁场，且同轴脉冲梯形磁场径向分量与等离子体射流中带电粒子的运动方向垂直，为等离子体射流提供径向扩张或收缩的洛伦兹力，调节等离子体射流的处理面积。本发明提供的装置产生了稳定、弥散、气体温度接近室温且作用面积可调的等离子体射流，实现了对目标物的高效、精准且低能耗处理，取得了很好的处理效果。

主权项：1.一种同轴脉冲梯形磁场调控等离子体射流的处理装置，其特征在于：包括气液控制模块、等离子体发生模块、脉冲梯形磁场发生模块、电源激励模块、同步控制器及等离子体处理模块，其中：所述气液控制模块用于控制各类介质的含量，生成所需混合气体或气液混合物；所述等离子体发生模块与气液控制模块相连，使气液控制模块输入的混合气体或气液混合物产生等离子体射流；所述脉冲梯形磁场发生模块与等离子体发生模块相连，用于产生参数可调的同轴脉冲梯形磁场，且同轴脉冲梯形磁场径向分量与等离子体射流中带电粒子的运动方向垂直，为等离子体射流提供径向扩张或收缩的洛伦兹力，调节等离子体射流的处理面积；所述电源激励模块包含高压脉冲电压源及脉冲电流源，所述高压脉冲电压源与等离子体发生模块相连，为等离子体发生模块提供高电压激励，所述脉冲电流源与脉冲梯形磁场发生模块相连，为脉冲梯形磁场发生模块提供脉冲电流激励；所述同步控制器与电源激励模块相连，使高压脉冲电压源的控制信号与脉冲电流源的控制信号同步触发且持续时间相同，用以使脉冲梯形磁场发生模块产生的脉冲梯形磁场与等离子体发生模块产生的等离子体射流耦合；所述等离子体处理模块与等离子体发生模块相连，且与气液控制模块的气路连通，用于处理目标物。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 河北工业大学 一种同轴脉冲梯形磁场调控等离子体射流的处理装置

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