申请/专利权人：三菱电机株式会社

申请日：2021-04-01

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117063027B

主分类号：F25B21/00

分类号：F25B21/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2023.12.01#实质审查的生效;2023.11.14#公开

摘要：对磁热材料施加磁场的磁场施加装置1具备：磁场产生部件10；第1磁轭11，连接于磁场产生部件10的两极；以及第2磁轭12，以能够在第1位置与第2位置之间移动的方式配置。由磁场产生部件10和第1磁轭11形成的第1闭合磁路41穿过容纳有磁热材料的磁场施加区域R。由磁场产生部件10、第1磁轭11和第2磁轭12形成的第2闭合磁路42绕过磁场施加区域R。磁场产生部件10、第1磁轭11和磁场施加区域R的相对位置关系是不变的。第2磁轭12位于第2位置时的第2闭合磁路42的磁阻小于第2磁轭12位于第1位置时的第2闭合磁路42的磁阻。

主权项：1.一种磁场施加装置，对磁热材料施加磁场，该磁场施加装置具备：磁场产生部件；第1磁轭，连接于所述磁场产生部件的两极；以及第2磁轭，以能够在第1位置与第2位置之间移动的方式配置，其中，由所述磁场产生部件和所述第1磁轭形成的第1闭合磁路穿过容纳所述磁热材料的磁场施加区域，由所述磁场产生部件、所述第1磁轭和所述第2磁轭形成的第2闭合磁路绕过所述磁场施加区域，且大于所述第1闭合磁路，所述磁场产生部件、所述第1磁轭和所述磁场施加区域的相对位置关系是不变的，所述第2磁轭位于所述第2位置时的所述第2闭合磁路的磁阻小于所述第2磁轭位于所述第1位置时的所述第2闭合磁路的磁阻，通过所述第2磁轭与所述第1磁轭之间产生的磁力增强，从而所述第2磁轭从所述第1位置向所述第2位置移动，所述磁场产生部件为电磁体，所述磁场施加装置还具备控制部，该控制部控制所述电磁体的磁力，通过由所述控制部增强所述电磁体的磁力，从而在所述第1磁轭与所述第2磁轭之间产生的磁力增强，所述控制部使所述电磁体的磁力及所述第2磁轭的位置按照第1状态、第2状态、第3状态及第4状态的顺序周期性地变化，所述第1状态是所述电磁体的磁力为第1强度且所述第2磁轭位于所述第1位置的状态，所述第2状态是所述电磁体的磁力为大于所述第1强度的第2强度且所述第2磁轭位于所述第1位置的状态，所述第3状态是所述电磁体的磁力为所述第2强度且所述第2磁轭位于所述第2位置的状态，所述第4状态是所述电磁体的磁力为所述第1强度且所述第2磁轭位于所述第2位置的状态，所述磁场施加装置还具备：固定构件，该固定构件与所述第1磁轭的相对位置是不变的；以及弹性体，连接于所述第2磁轭和所述固定构件，其中，所述弹性体对位于所述第2位置的所述第2磁轭施加向所述第1位置的力。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱电机株式会社 磁场施加装置

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