申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司

申请日：2022-09-30

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117855018A

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32;H01L21/67;G01B11/27

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及聚焦环的校准装置。该聚焦环的校准装置，包括：沿圆周方向间隔排布的多个支撑件，任意两相邻的支撑件之间还具有用于避让传输装置的开口；支撑件包括导向部、限位部及承载部，导向部为形成于限位部顶部的斜面，用于将聚焦环导向至限位部，限位部为形成于承载部顶部直面，承载部用于承载聚焦环。本申请实施例实现了无需开腔即可对聚焦环进行更换的目的，并且还能避免聚焦环与腔室内的基座对正不准的问题发生，从而大幅降低了半导体工艺设备的维护时间。

主权项：1.一种聚焦环的校准装置，其特征在于，包括：沿圆周方向间隔排布的多个支撑件，任意两相邻的所述支撑件之间还具有用于避让传输装置的开口；所述支撑件包括导向部、限位部及承载部，所述导向部为形成于所述限位部顶部的斜面，用于将所述聚焦环导向至所述限位部，所述限位部为形成于所述承载部顶部直面，所述承载部用于承载所述聚焦环。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备及聚焦环的校准装置

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