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【发明公布】一种超高精度硅基OLED FMM Mask及其制作方法_安徽芯视佳半导体显示科技有限公司_202311691696.2 

申请/专利权人:安徽芯视佳半导体显示科技有限公司

申请日:2023-12-11

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117858595A

主分类号:H10K71/16

分类号:H10K71/16;C23C14/04;B23P15/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要:本发明公开了一种超高精度硅基OLEDFMMMask,包括MaskFrame和Invar合金,所述Invar合金采用整体张网焊接在MaskFrame上,Invar合金上设有像素孔。本发明还公开了一种超高精度硅基OLEDFMMMask的制作方法,首先将板厚较厚的Invar合金原材料,进行刻蚀减薄;再将Invar合金材料整体张网焊接到MaskFrame上,然后通过激光设备,采用分步开孔法及对称开孔法在Invar合金上制作像素开孔,形成一体式激光开孔的FMMMask;从而提升MicroOLEDRGBsidebyside蒸镀良率。

主权项:1.一种超高精度硅基OLEDFMMMask,其特征在于:包括MaskFrame1和Invar合金2,所述Invar合金2采用整体张网焊接在MaskFrame1上,Invar合金2上设有像素孔3。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 安徽芯视佳半导体显示科技有限公司 一种超高精度硅基OLED FMM Mask及其制作方法

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