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【发明公布】用于周期性图案化表面的测序仪聚焦质量度量和聚焦跟踪_因美纳有限公司_202280045027.5 

申请/专利权人:因美纳有限公司

申请日:2022-09-09

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117859086A

主分类号:G02B21/24

分类号:G02B21/24;G01N21/64;G02B7/28

优先权:["20210910 US 63/242,801","20220908 US 17/940,591"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.09#公开

摘要:本发明描述了一种与强度无关的聚焦质量度量的生成和使用。在一个示例中,通过获取图像诸如流通池的图案化表面的图像并处理该图像的整体或一部分例如,子区域或子图像以生成相应图像数据的傅立叶变换,从而生成该聚焦质量度量。举例来说,在一个实施方案中,离散傅立叶变换可应用于图案化流通池表面的图像的子区域。可从该图像数据的该傅立叶变换导出与强度无关的聚焦质量度量。

主权项:1.一种用于确定聚焦质量度量的方法,所述方法包括:获取或访问包括多个样本孔的流通池的图像;确定所述图像的一部分或整体的傅立叶变换,其中与所述图像相关联的光学点扩散函数PSF不具有高斯分布曲线;基于所述傅立叶变换来确定功率谱;确定拟合到所述功率谱的一部分的线性分段的斜率,其中所述斜率与所述聚焦质量度量对应;基于至少所述聚焦质量度量来参数化或校准聚焦模型;以及基于所述聚焦模型来调整物镜和所述流通池所在的样本台的相对位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 因美纳有限公司 用于周期性图案化表面的测序仪聚焦质量度量和聚焦跟踪

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