申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请日：2022-04-05

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117859100A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G02B7/00;G02B7/18

优先权：["20210617 DE 102021206203.2"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.09#公开

摘要：本发明系关于加热设备及用于加热光学元件的方法，尤其是一种微光刻投影曝光装置。一种根据本发明的加热设备包含至少一个光束成形单元12、22、32、42、52、54，用于对从辐射源引导到至少一个光学元件25、35、45、55a、55b的电磁辐射进行光束成形；以及传感器设备，其具有至少一个强度传感器13、23、33a、33b、43、53，其中该至少一个光束成形单元包含至少一个微结构元件，当该加热设备处于操作时，该微结构元件将一些电磁辐射引导到该传感器设备。

主权项：1.一种加热设备，通过使电磁辐射撞击到所述加热设备上来加热光学元件，所述加热设备包含：至少一个光束成形单元12、22、32、42、52、54，用于对从辐射源引导到所述至少一个光学元件25、35、45、55a、55b的电磁辐射进行光束成形；及传感器设备，具有至少一个强度传感器13、23、33a、33b、43、53；其中所述至少一个光束成形单元12、22、32、42、52、54包含至少一个微结构元件，当所述加热设备处于操作时，所述微结构元件将一些电磁辐射引导到所述传感器设备。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 加热设备及用于加热光学元件的方法

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