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【发明授权】一种图像聚焦方法和图像聚焦系统_魅杰光电科技(上海)有限公司_202311686192.1 

申请/专利权人:魅杰光电科技(上海)有限公司

申请日:2023-12-08

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN117452782B

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.09#授权;2024.02.13#实质审查的生效;2024.01.26#公开

摘要:本发明公开了一种图像聚焦方法和图像聚焦系统,图像聚焦方法通过获取对比度曲线和图像比对模板;获取测量套刻标记的测量套刻图像,并获取测量套刻图像的图像对比度值;将图像对比度值与对比度曲线进行比对,以获取至少一焦面位置;基于至少一焦面位置获取至少一粗聚焦焦面图像,基于至少一粗聚焦焦面图像获取粗聚焦最佳焦面位置;围绕粗聚焦最佳焦面位置获取多个细聚焦焦面位置,将图像比对模板与细聚焦焦面图像进行匹配,以得到最终匹配得分曲线;基于最终匹配得分曲线获取细聚焦最佳焦面位置。本发明能够在一定程度上替代现有的白光干涉模块,也解决了现有的图像聚焦方法容易聚焦失败的问题,实现套刻图案的快速聚焦。

主权项:1.一种图像聚焦方法,其特征在于,包括:获取模板套刻图像组图,其中,所述模板套刻图像组图包括镜头在对模板套刻标记从离焦到聚焦,再到离焦过程中的获取若干模板套刻图像,以及理想模板套刻图像;获取所述模板套刻图像组图中每一所述模板套刻图像对应的图像对比度值,并基于若干所述图像对比度值获取对比度曲线;框选所述理想模板套刻图像上的部分区域,并将所述部分区域作为图像比对模板;获取测量套刻标记的测量套刻图像,并获取所述测量套刻图像的图像对比度值;将所述图像对比度值与所述对比度曲线进行比对,以获取至少两焦面位置;基于两所述焦面位置获取两粗聚焦焦面图像,并将两所述粗聚焦焦面图像分别与所述图像比对模板进行NCC模板匹配,以获取两匹配得分;比对两所述匹配得分的大小,并将较大匹配得分对应的所述粗聚焦焦面图像所处的焦面位置作为粗聚焦最佳焦面位置,其中,所述较大匹配得分为两所述匹配得分中较大的匹配得分;以小步进方式围绕所述粗聚焦最佳焦面位置获取多个细聚焦焦面位置;以不同角度多次旋转所述图像比对模板以得到多个旋转图像比对模板;将每一所述旋转图像比对模板分别与多个细聚焦焦面图像进行NCC模板匹配,以得到多个子匹配得分曲线;基于所述多个子匹配得分曲线得到最终匹配得分曲线;基于所述最终匹配得分曲线获取最佳匹配分数对应的细聚焦最佳焦面位置,并对所述细聚焦最佳焦面位置进行采图测量。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 魅杰光电科技(上海)有限公司 一种图像聚焦方法和图像聚焦系统

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