申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司

申请日：2020-05-11

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN111443571B

主分类号：G03F7/00

分类号：G03F7/00;G02B5/18

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2020.08.18#实质审查的生效;2020.07.24#公开

摘要：本发明提供了一种压印模板及压印方法，属于压印技术领域。其中，压印模板，包括：基板和设置在所述基板上的多个相互平行的微结构，沿远离所述基板的方向，所述微结构的横截面的面积与所述横截面与所述基板之间的距离负相关。本发明的技术方案能够制作线宽和周期可调的光栅。

主权项：1.一种压印方法，其特征在于，包括：涂覆步骤，在基底上涂覆一层压印胶；压印步骤，利用压印模板对所述压印胶进行压印，得到压印胶图形，沿远离所述基底的方向，所述压印胶图形的横截面的面积与所述横截面与所述基底之间的距离负相关；第一刻蚀步骤，对压印胶图形进行整体减薄，暴露出第一区域的基底；对第一区域的基底进行刻蚀，形成第一凹槽；在刻蚀后的基底上形成填充所述第一凹槽的第一光刻胶；对压印胶图形再次进行整体减薄，暴露出第二区域的基底；对第二区域的基底进行刻蚀，形成第二凹槽；在刻蚀后的基底上形成填充所述第二凹槽的第二光刻胶；重复上述第一刻蚀步骤，直至所述第一区域和所述第二区域交替排布在所述基底上；第二刻蚀步骤，去除所述第二光刻胶，对第二区域的基底进行刻蚀，形成多个相互平行的凹槽；去除所述第一光刻胶，得到光栅；其中，所述压印模板包括：基板和设置在所述基板上的多个相互平行的微结构，沿远离所述基板的方向，所述微结构的横截面的面积与所述横截面与所述基板之间的距离负相关。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 压印模板及压印方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD