申请/专利权人：西默有限公司

申请日：2020-06-25

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN114144731B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;H01S3/10;H01S3/1055

优先权：["20190723 US 62/877,796"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2022.03.22#实质审查的生效;2022.03.04#公开

摘要：一种用于控制辐射脉冲的辐射系统包括：被配置为与辐射脉冲相互作用以控制辐射脉冲的特性的光学元件；被配置为根据从控制器接收的控制信号致动光学元件的致动器，控制信号至少部分地取决于辐射系统的参考脉冲重复率；以及被配置为从控制器接收脉冲信息并且使用脉冲信息确定对控制信号的调节的处理器。辐射系统可以用于提高以多焦点成像模式操作的光刻设备的精度。

主权项：1.一种用于控制辐射脉冲的辐射系统，包括：光学元件，被配置为与所述辐射脉冲相互作用以控制所述辐射脉冲的特性；致动器，被配置为根据从控制器接收的控制信号，来致动所述光学元件，所述控制信号至少部分地取决于所述辐射系统的参考脉冲重复率，其中所述控制器被配置为接收脉冲信息并且使用所述脉冲信息来确定和施加对所述控制信号的调节，并且其中所述脉冲信息包括所述辐射系统的操作性脉冲重复率，并且其中所述调节至少部分地考虑所述参考脉冲重复率与所述操作性脉冲重复率之间的差异。

全文数据：

权利要求：

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