申请/专利权人：南京大学

申请日：2021-12-10

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN114199806B

主分类号：G01N21/35

分类号：G01N21/35;G01N21/3563;G01Q60/24

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2022.04.05#实质审查的生效;2022.03.18#公开

摘要：用AFM‑IR检测微纳米粗糙的铜箔表面有机物分布的方法，应用基于原子力显微成像‑红外光谱技术对PCB用铜箔表面任意一点进行红外光谱全谱扫描，获取铜箔表面吸附的硅烷偶联剂的红外特征吸收谱图，选择谱图中的硅烷偶联剂强度最大的特征峰作为AFM‑IR的红外检测波长，然后用这一检测波长对5μm×5μm区域进行扫描以获取该区域内的硅烷偶联剂的信号强度分布数据，使用数据处理软件进行数据处理，生成铜箔表面硅烷偶联剂的三维立体分布图像，表征硅烷偶联剂的空间分布状态。

主权项：1.用AFM-IR检测微纳米粗糙的铜箔表面有机物分布的方法，其特征在于应用原子力显微原理来探测红外光谱，对高频高速印刷电路板所用铜箔表面任意一点进行红外光谱全谱扫描，获取铜箔表面吸附的硅烷偶联剂的红外特征吸收谱图，选择谱图中的硅烷偶联剂强度最大的特征峰作为AFM-IR的红外检测波长，然后用这一检测波长对5μm×5μm区域进行扫描以获取该区域内的硅烷偶联剂的信号强度分布数据，使用数据处理软件进行数据处理，数据处理软件自动生成铜箔表面硅烷偶联剂的三维立体分布图像，确定硅烷偶联剂在铜箔表面不同位置的相对厚度，表征硅烷偶联剂的空间分布。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 南京大学 用AFM-IR检测微纳米粗糙的铜箔表面有机物分布的方法

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