申请/专利权人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日:2024-02-05
公开(公告)日:2024-04-09
公开(公告)号:CN117711918B
主分类号:H01L21/02
分类号:H01L21/02;C23C16/24;C23C16/56
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.09#授权;2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开
摘要:本发明涉及半导体领域,涉及一种低温多晶硅薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1,准备玻璃基板作为衬底,表面清洗后,在烘箱内干燥;步骤2,制备硅化铜多孔微球,并与硅溶胶混合形成复合液;步骤3,在衬底上涂覆复合液,经过一定温度的处理后,形成复合层;步骤4,在复合层上通过化学气相沉积法沉积非晶硅层;步骤5,对衬底预热处理后,再对非晶硅层进行低温激光处理,得到多晶硅薄膜。本发明通过对现有技术的方法进行改进,在低温的条件下制备了多晶硅薄膜,制备过程比较简便,形成多晶硅的时间也比较短,适合大规模的推广使用。本发明制备的多晶硅薄膜的晶粒尺寸较大、缺陷比较少并且排列比较规整,此外,多晶硅薄膜的电子迁移率也比较大。
主权项:1.一种低温多晶硅薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:准备玻璃基板作为衬底,表面清洗后,在烘箱内干燥;步骤2:制备硅化铜多孔微球,并与硅溶胶混合形成复合液;步骤3:在衬底上涂覆复合液,经过一定温度的处理后,形成复合层;步骤4:在复合层上通过化学气相沉积法沉积非晶硅层;步骤5:对衬底预热处理后,再对非晶硅层进行低温激光处理,得到多晶硅薄膜。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种低温多晶硅薄膜及其制备方法
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