申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2019-11-11

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN112997277B

主分类号：H01L21/304

分类号：H01L21/304;B08B3/02

优先权：["20181116 JP 2018-215775"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.09#授权;2021.09.03#实质审查的生效;2021.06.18#公开

摘要：基板处理装置的控制部执行以下工序：清洗工序，在将从由基板保持部保持的基板清洗用基板的上表面起至盖构件的下表面为止的上下方向距离设为第一距离的状态下，一边通过旋转驱动部使基板旋转，一边从清洗液供给部向基板的上表面供给清洗液，由此通过充满基板的上表面与盖构件的下表面之间的空间的清洗液来至少清洗盖构件的下表面；以及干燥工序，在清洗工序之后，在将所述上下方向距离设为比第一距离大的第二距离的状态下，停止从清洗液供给部供给清洗液，并通过旋转驱动部使基板旋转，由此至少使盖构件的下表面干燥。

主权项：1.一种基板处理装置，具备：基板保持部，其保持基板；旋转驱动部，其使所述基板保持部旋转；盖构件，其用于覆盖被所述基板保持部保持的基板的上表面；升降部，其使所述盖构件进行升降；清洗液供给部，其向被所述盖构件覆盖了的所述基板的上表面供给清洗液；以及控制部，其控制所述基板处理装置来执行以下工序：清洗工序，在将从由所述基板保持部保持的所述基板的上表面起至所述盖构件的下表面为止的上下方向距离设为第一距离的状态下，一边通过所述旋转驱动部使所述基板旋转，一边从所述清洗液供给部向所述基板的上表面供给所述清洗液，由此通过充满所述基板的上表面与所述盖构件的下表面之间的空间的所述清洗液来至少清洗所述盖构件的下表面；以及干燥工序，在所述清洗工序之后，在将所述上下方向距离设为比所述第一距离大的第二距离的状态下，停止从所述清洗液供给部供给所述清洗液，并通过所述旋转驱动部使所述基板旋转，由此至少使所述盖构件的下表面干燥。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理装置的清洗方法

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