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【发明公布】一种高稳定无氰化学镀还原金溶液_江苏矽智半导体科技有限公司_202410119675.1 

申请/专利权人:江苏矽智半导体科技有限公司

申请日:2024-01-29

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN117867481A

主分类号:C23C18/44

分类号:C23C18/44

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要:本发明公开了一种高稳定无氰化学镀还原金溶液,本发明中该化学镀还原金溶液液包括二亚硫酸金(I)三钠:1‑4gL(按金元素计);亚硫酸钠:10‑40gL;络合剂:20‑40gL;还原剂:15‑30gL;加速剂:0.1‑0.5gL、磷酸氢二钠:5‑20gL;磷酸二氢钠:3‑10gL;界面活性剂:0.1‑10gL,其余为纯水。本发明是自催化型还原金,使用时需置换金打底,作金加厚使用,金厚度能达1μm以上,金镀层细腻,溶液稳定性良好。

主权项:1.一种高稳定无氰化学镀还原金溶液,其特征在于,其按以下浓度组分组成:二亚硫酸金(I)三钠:1-4gL,按金元素计量亚硫酸钠:10-40gL络合剂:20-40gL还原剂:15-30gL磷酸氢二钠:5-20gL磷酸二氢钠:3-10gL加速剂:0.1g-0.5gL界面活性剂:0.1-10gL其余为纯水。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 江苏矽智半导体科技有限公司 一种高稳定无氰化学镀还原金溶液

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