申请/专利权人：菲拓梅里克斯公司

申请日：2022-05-12

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117881958A

主分类号：G01N21/88

分类号：G01N21/88;H01L21/66;G02F1/37;G01B11/24;G01N21/94;G01N21/95;G01N21/63

优先权：["20210512 US 63/187,868","20210513 US 63/188,054"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.12#公开

摘要：所公开的系统和方法使用光的二次谐波产生来监控制造过程，以发现可能影响所生产装置的性能或产量的变化和或确定所生产装置的临界尺寸。

主权项：1.一种使用二次谐波产生来特征化样本的系统，包括：样本支架，其被配置为支撑样本；至少一个光源，其被配置为将光射束引导至所述样本上以产生多个二次谐波产生SHG信号；光学检测系统，其包括至少一个光学检测器，所述至少一个光学检测器被配置为接收自所述样本发射的所述多个SHG信号且产生检测到的SHG信号；一个或多个与所述光学检测系统通信的硬件处理器，所述一个或多个硬件处理器被配置为：接收至少一个检测到的SHG信号；及基于所述至少一个检测到的SHG信号来判定所述样本的几何特征或所述样本的几何特征的变动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 菲拓梅里克斯公司 用于临界尺度计量的二次谐波产生

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