申请/专利权人：上海交通大学

申请日：2023-12-15

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117869431A

主分类号：F15D1/00

分类号：F15D1/00;C23C14/20;C23C14/35;B29D16/00;B29D7/01;B29C61/06;B29C59/14;B29C59/16

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明涉及一种结合流向与展向分级微沟槽的减阻薄膜及其制备方法，包括基底与分级微沟槽，其中基底包括软质基底、一级硬质基底、二级硬质基底、三级硬质基底；分级微沟槽包括展向一级沟槽、流向二级沟槽、展向三级沟槽；所述的流向二级沟槽布置在基底上，所述流向二级沟槽顶部与底部高度沿流体方向发生周期性变化，构成展向一级沟槽；所述流向二级沟槽表面具有展向三级沟槽；所述流向二级沟槽的设置方向与薄膜表面的流体方向相同；所述展向一级沟槽与展向三级沟槽的设置方向与薄膜表面的流体方向垂直。与现有技术相比，本发明具有更能适应来流方向的变化，更适用于不同雷诺数的航行器。

主权项：1.一种结合流向与展向分级微沟槽的减阻薄膜，其特征在于，包括基底1与分级微沟槽2，其中基底1包括软质基底3、一级硬质基底4、二级硬质基底5、三级硬质基底6；分级微沟槽2包括展向一级沟槽7、流向二级沟槽8、展向三级沟槽9，其中，所述的流向二级沟槽8布置在基底1上，流向二级沟槽8顶部与底部高度沿流体方向发生周期性变化，构成展向一级沟槽7，流向二级沟槽8表面具有展向三级沟槽9；所述流向二级沟槽8的设置方向与薄膜表面的流体方向相同；所述展向一级沟槽7与展向三级沟槽9的设置方向与薄膜表面的流体方向垂直。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海交通大学 一种结合流向与展向分级微沟槽的减阻薄膜及其制备方法

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