申请/专利权人：苏州山河光电科技有限公司

申请日：2024-02-02

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117872519A

主分类号：G02B5/00

分类号：G02B5/00;G02B3/00;G02B27/00;G02B27/09

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明提供一种基于超表面的光学元件、光学系统及光学元件的设计方法，基于超表面的光学元件包括成像单元，所述成像单元具有基底以及阵列式排布于基底上的多个纳米结构，所述成像单元包括透镜区域以及光阑区域，所述透镜区域和光阑区域内均排布有纳米结构，所述光阑区域内的纳米结构对于目标波段光的透过率小于透镜区域内的纳米结构对于目标波段光的透过率；通过在成像单元的透镜区域和光阑区域内排布透过率不同的纳米结构，使得目标波段光能够顺利地透过透镜区域且无法透过光阑区域，从而无需套刻工艺即可实现将超透镜与光阑进行集成，从而避免超透镜与光阑之间存在位置偏差，确保获得所需的光斑形貌。

主权项：1.一种基于超表面的光学元件，包括成像单元，所述成像单元具有基底以及阵列式排布于基底上的多个纳米结构，其特征在于，所述成像单元包括透镜区域以及光阑区域，所述透镜区域和光阑区域内均排布有纳米结构，所述光阑区域内的纳米结构对于目标波段光的透过率小于透镜区域内的纳米结构对于目标波段光的透过率。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州山河光电科技有限公司 基于超表面的光学元件、光学系统及光学元件的设计方法

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