申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司

申请日：2020-09-24

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN114641808B

主分类号：G06V40/13

分类号：G06V40/13;H01L31/0216

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2022.07.05#实质审查的生效;2022.06.17#公开

摘要：一种纹路识别模组100、其制作方法及显示装置，在纹路识别模组100中的基底1上制作完成光学传感结构2后直接制作结构相对简单的至少两层遮光层31和透光层32即可达到较好的准直效果，且器件结构较轻薄，可以降低器件的加工工艺难度。避免采用在纹路识别模组100之上采用光学胶OCA300贴合准直结构3的方式带来的起泡等影响良率的问题。并且，由于在光学传感结构2之上直接制作膜层形成准直结构3，因此，可以采用阵列基板之上膜层制作通用的设备完成准直结构3的制作，无需增加新的制作设备。

主权项：1.一种纹路识别模组，包括纹路识别区域和设置在所述纹路识别区域的周边区域的绑定区域，其中，所述纹路识别模组包括：基底；光学传感结构，位于所述基底之上且在所述纹路识别区域内；准直结构，位于所述光学传感结构背离所述基底的一侧、至少在所述纹路识别区域内且未覆盖所述绑定区域，所述准直结构包括至少两层层叠设置的遮光层和位于每相邻两层遮光层之间的透光层，各所述遮光层具有呈阵列排布的透光孔，各所述遮光层中的透光孔一一对应且在所述基底上的正投影至少部分重合；所述透光层包括透明树脂层和透明无机绝缘层；在相邻两层遮光层之间，所述透明树脂层与邻近所述基底一侧的遮光层邻接，所述透明无机绝缘层与远离所述基底一侧的遮光层邻接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 纹路识别模组、其制作方法及显示装置

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