申请/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所

申请日：2021-07-01

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN115555705B

主分类号：B23K26/042

分类号：B23K26/042;B23K26/06;B23K26/70

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2023.03.21#实质审查的生效;2023.01.03#公开

摘要：一种多路皮秒和纳秒复合高功率激光脉冲系统及聚焦调节方法，本发明将聚焦离轴抛物面反射镜与靶室集成为一体，解决了传统聚焦方法中离轴抛物面反射镜占用空间大，且在多束光入射时难以调节聚焦的问题，为光束较多的情况下提供了聚焦的可能性。

主权项：1.一种多路皮秒和纳秒复合高功率激光脉冲系统进行多路皮秒脉冲聚焦调节的方法，其特征在于该系统的构成是：根据工作的需要，在靶室的内壁上设置具有共同焦点位置的N路离轴抛物面反射镜，靶位设置在所述的离轴抛物面反射镜的焦点，称为靶点，在第i入射光路和第i离轴抛物面反射镜（Li）之间设置第i1转接镜（Mi1）和第i2转接镜（Mi2），所述的第i1转接镜（Mi1）和第i2转接镜（Mi2）的位置或角度通过相应的步进电机来控制；该方法包括下列步骤：1）根据靶室的尺寸和靶点的位置计算出第i路离轴抛物面反射镜（Li）的焦距fi和离轴量bi，N为靶室的所有皮秒激光脉冲入射光路或离轴抛物面反射镜（Li）的总数；2）在第i入射光路和第i路离轴抛物面反射镜之间设置第i1转接镜（Mi1）和第i2转接镜（Mi2），所述的第i1转接镜（Mi1）和第i2转接镜（Mi2）分别设置第i1步进电机（Bi1）和第i2步进电机（Bi2），在所述的靶点位置放置一个CCD，该CCD的输出端与电脑的输入端相连；3）令i=1;4通过第i1步进电机（Bi1）控制第i1转接镜（Mi1）调节第i入射光束的位置，通过第i2步进电机（Bi2）控制所述的第i2转接镜（Mi2）调节第i入射光束的方向或角度，所述的CCD将所监测到的光斑尺寸输入所述的电脑，当所述的电脑显示的光斑尺寸达到最小值时，即完成第i入射光路和第i路离轴抛物面反射镜的聚焦调节；5）当iN时，令i=i+1，并返回步骤4），当i≥N时，进入下一步；6）完成聚焦调节。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院上海光学精密机械研究所 多路皮秒和纳秒复合高功率激光脉冲系统及聚焦调节方法

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