申请/专利权人：北京知觉科技有限公司

申请日：2021-09-13

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN113759459B

主分类号：G02B6/02

分类号：G02B6/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2021.12.24#实质审查的生效;2021.12.07#公开

摘要：本发明提供一种耐高温光纤布拉格光栅阵列的制备方法，涉及光纤光栅制备技术领域，包括：步骤S1，对一单模光纤预制棒进行单层聚酰亚胺涂层的涂覆得到单层聚酰亚胺涂覆光纤；步骤S2，对所述单层聚酰亚胺涂覆光纤进行定点光栅写入以形成光纤布拉格光栅阵列；步骤S3，对形成有所述光纤布拉格光栅阵列的所述单层聚酰亚胺涂覆光纤进行所述单层聚酰亚胺涂层的二次涂覆，以制备得到耐高温光纤布拉格光栅阵列。有益效果解决了现有的聚酰亚胺涂层光纤布拉格光栅阵列无法耐受高温的问题，本技术方案制备得到聚酰亚胺涂层光纤布拉格光栅阵列可以耐受300～350℃高温，将光栅阵列的使用场景拓宽，可广泛用于油气开采运输、发电设施、大型工业设备的传感监测中。

主权项：1.一种耐高温光纤布拉格光栅阵列的制备方法，其特征在于，包括：步骤S1，对一单模光纤预制棒进行单层聚酰亚胺涂层的涂覆得到单层聚酰亚胺涂覆光纤，所述单层聚酰亚胺涂层的厚度为2～5微米；步骤S2，对所述单层聚酰亚胺涂覆光纤进行定点光栅写入以形成光纤布拉格光栅阵列，其中，在不剥除所述单层聚酰亚胺涂层的前提下，于所述单层聚酰亚胺涂覆光纤中每隔一间距多脉冲写入一个具有一反射率的光纤布拉格光栅以形成所述光纤布拉格光栅阵列；步骤S3，对形成有所述光纤布拉格光栅阵列的所述单层聚酰亚胺涂覆光纤进行所述单层聚酰亚胺涂层的二次涂覆，以制备得到耐高温光纤布拉格光栅阵列，二次涂覆的所述单层聚酰亚胺涂层的厚度为5～25微米。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京知觉科技有限公司 一种耐高温光纤布拉格光栅阵列的制备方法

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