申请/专利权人：爱博诺德(北京)医疗科技股份有限公司

申请日：2023-08-10

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN220776130U

主分类号：H05H1/24

分类号：H05H1/24

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权

摘要：本实用新型提供等离子体射流产生装置和接触镜护理装置，等离子体射流产生装置包括等离子体射流阵列，所述等离子体射流阵列包括多个阵列排布的等离子体射流源。所述多个等离子体射流源包括一个第一等离子体射流源和多个第二等离子体射流源，所述多个第二等离子体射流源围绕所述第一等离子体射流源配置。所述第一等离子体射流源为单DBD结构，所述第二等离子体射流源为双DBD结构。采用中心一个单DBD结构的等离子体射流源和外围多个双DBD结构的等离子体射流源的结构，能够产生均匀的等离子体，提高处理效果；放电等离子体射流是柔和的辉光放电模式，避免丝弧放电。

主权项：1.一种等离子体射流产生装置，其特征在于，包括等离子体射流阵列，所述等离子体射流阵列包括多个阵列排布的等离子体射流源，所述多个等离子体射流源包括一个第一等离子体射流源和多个第二等离子体射流源，所述多个第二等离子体射流源围绕所述第一等离子体射流源配置，所述第一等离子体射流源为单DBD结构，所述第二等离子体射流源为双DBD结构。

全文数据：

权利要求：

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