申请/专利权人：易安爱富科技有限公司

申请日：2022-12-20

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117917457A

主分类号：C09K13/06

分类号：C09K13/06;H01L21/3105;H01L21/311;C09K13/08;C09K13/10

优先权：["20221020 KR 10-2022-0135327"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.23#公开

摘要：本发明涉及一种用于在同时暴露有氧化硅膜和硅的表面选择性地蚀刻硅的组合物。根据本发明，可以在半导体表面提高硅的选择性蚀刻比。

主权项：1.一种硅选择性蚀刻液组合物，其中，包括：氟化合物；硝酸；磷酸；醋酸；以及亚硝酸化合物。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 易安爱富科技有限公司 硅选择性蚀刻液组合物、其制备方法及半导体器件

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