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【发明公布】基底处理设备和基底处理方法_细美事有限公司_202311157507.3 

申请/专利权人:细美事有限公司

申请日:2023-09-08

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN117894722A

主分类号:H01L21/677

分类号:H01L21/677

优先权:["20221013 KR 10-2022-0131691"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.04.16#公开

摘要:提供了一种能够提高装备的利用率并使装备的占用空间最小化的基底处理设备和基底处理方法,该基底处理设备包括:装载端口模块,装载端口模块装载有第一载具,第一基底存放在第一载具中;传送机器人,传送机器人用于从第一载具传送第一基底;第一适配器区域,第一适配器区域用于临时存放由传送机器人传送的第一基底;第二适配器区域,第二适配器区域用于在从装载端口模块卸载了第一载具之后,临时存放由传送机器人从装载到装载端口模块上的第二载具传送的第二基底;以及控制器,控制器用于向传送机器人施加第一基底传送控制信号以将被临时存放在第一适配器区域中并且完成了处理的第一基底存放在空的第二载具中。

主权项:1.一种基底处理设备,包括:装载端口模块,所述装载端口模块装载有第一载具,第一基底存放在所述第一载具中;传送机器人,所述传送机器人用于从所述第一载具传送所述第一基底;第一适配器区域,所述第一适配器区域用于临时存放由所述传送机器人传送的所述第一基底;第二适配器区域,所述第二适配器区域用于在从所述装载端口模块卸载了所述第一载具之后,临时存放由所述传送机器人从装载到所述装载端口模块上的第二载具传送的第二基底;以及控制器,所述控制器用于向所述传送机器人施加第一基底传送控制信号,以将被临时存放在所述第一适配器区域中并且完成了处理的所述第一基底存放在空的所述第二载具中。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 细美事有限公司 基底处理设备和基底处理方法

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