申请/专利权人：日本电气硝子株式会社

申请日：2022-08-30

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117897643A

主分类号：G02B7/00

分类号：G02B7/00;H01S5/02255;H01L31/0232

优先权：["20210902 JP 2021-143435"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：本发明提供一种多次进行伴随加热熔融的构件安装时，先安装的构件不易发生错位的附膜构件。本发明的附膜构件1具有：构件主体2；和设置在构件主体2的主表面2a上的密接膜3，密接膜3具有：直接地或间接地叠层在构件主体2的主表面2a上，且含有Ni的Ni层6；设置在Ni层6上的扩散抑制层7；和设置在扩散抑制层7上，且含有Au和Sn中的至少一种的焊料层8。

主权项：1.一种附膜构件，其特征在于，所述附膜构件具有：具有主表面的构件主体；和设置在所述构件主体的所述主表面上的密接膜，所述密接膜具有：直接地或间接地叠层在所述构件主体的所述主表面上，且含有Ni的Ni层；设置在所述Ni层上的扩散抑制层；和设置在所述扩散抑制层上，且含有Au和Sn中的至少一种的焊料层。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日本电气硝子株式会社 附膜构件和光学器件

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