申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2019-12-05

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113195151B

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18

优先权：["20181217 US 62/780,815"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2021.12.28#实质审查的生效;2021.07.30#公开

摘要：本文中所述的实施方式涉及方法及装置，这些方法及装置用于使用成角度蚀刻系统和或光学设备来在基板上形成具有带有不同斜角的多个鳍片的光栅以及在相继的基板上形成带有不同斜角的鳍片。这些方法包括以下步骤：将保持在工作台上的基板的那些部分定位在离子束的路径中。这些基板具有设置在这些基板上的光栅材料。该离子束被配置为相对于这些基板的表面法线以离子束角θ接触该光栅材料并且在该光栅材料中形成光栅。

主权项：1.一种光栅形成方法，包括以下步骤：相对于基板的表面法线以离子束角θ朝向所述基板投射离子束，其中：以所述离子束与一个或多个第一鳍片的第一光栅矢量之间的第一旋转角φ1定位要形成于所述基板上的光栅的第一部分，所述一个或多个第一鳍片要通过接触所述第一部分的所述离子束来形成；所述第一旋转角φ1被选定为将所述一个或多个第一鳍片形成为相对于所述基板的所述表面法线具有第一斜角θ’1；以所述离子束与一个或多个第二鳍片的第二光栅矢量之间的第二旋转角φ2定位要形成于所述基板上的所述光栅的第二部分，所述一个或多个第二鳍片要通过接触所述第二部分的所述离子束来形成；以及所述第二旋转角φ2被选定为将所述光栅的所述一个或多个第二鳍片形成为相对于所述基板的所述表面法线具有与所述第一斜角θ’1不同的第二斜角θ’2，所述光栅形成方法进一步包括以下步骤：相对于所述基板的所述表面法线以射束角α引导所述离子束，并且其中引导所述离子束的步骤包括以下步骤：相对于所述离子束移动一对或多对电极。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 成角度的光栅的旋转K矢量的调制

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