申请/专利权人：奥雷尔科技有限公司

申请日：2015-10-20

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113930707B

主分类号：C23C4/134

分类号：C23C4/134;C23C4/02;C23C4/06;H05H1/26

优先权：["20141021 US 62/066,392"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2022.02.01#实质审查的生效;2022.01.14#公开

摘要：本发明提出了一种在基底上形成薄的图案化金属膜的方法和系统。所述方法包括将油墨组合物涂覆在预处理后的基底的表面上，其中所述油墨组合物至少包含金属阳离子；以及至少将涂覆在所述基底上的油墨组合物暴露于低能量等离子体中，其中根据第一组暴露参数操控所述低能量等离子体。

主权项：1.一种在PET基底上形成图案化金属薄膜的方法，包括：用氧等离子体处理PET基底，暴露参数包括13MHz的RF频率、50W的功率和5SCCM的氧流量，其中在具有375托的低压的真空室中通过具有2×2mm空隙面积的聚合物掩模涂覆等离子体，以产生亲水图案；将油墨组合物涂覆在预处理后的PET基底的表面上，其中所述油墨组合物包含在水中浓度为40wt％的金属阳离子AgNO3溶液；其中所述油墨组合物以预定的图案涂覆；和至少将涂覆在所述PET基底上的油墨组合物暴露于低能量等离子体中，其中，根据第一组暴光参数操控所述低能量等离子体；其中，所述PET基底被放置在真空室中，并且所述等离子体是氩等离子体，所述真空室设置有包括13MHz的RF频率、50W的功率和3SCCM的氩流量的暴露参数，所述等离子体被施加在具有375托的低压的真空室中，从而在PET基底的顶部形成厚度为500nm的金属薄膜，而没有任何基底变形。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 奥雷尔科技有限公司 一种在基底上形成图案化金属膜的方法和系统

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