申请/专利权人：北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司

申请日：2023-08-31

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN220795065U

主分类号：G01N21/88

分类号：G01N21/88;G01N21/01

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权

摘要：本实用新型公开了一种坩埚表面缺陷检测装置，包括支撑台，所述支撑台的顶面上设置有用于支撑所述坩埚的旋转机构及用于驱动所述旋转机构进行转动的驱动机构；所述支撑台的顶面上位于所述旋转机构的内侧设置有用于照射坩埚的光照机构；所述支撑台的顶面上对应所述光照机构设置有CCD视觉检测机，用于采集坩埚的表面图像进行检测对比。本实用新型的坩埚表面缺陷检测装置，整个检测过程，简单、便捷，通过对旋转过程中的坩埚进行整个环形壁面的图像信息采集，采集信息更加精确，检测标准统一、检测效率更高。

主权项：1.一种坩埚表面缺陷检测装置，其特征在于，包括支撑台，所述支撑台的顶面上设置有用于支撑所述坩埚的旋转机构及用于驱动所述旋转机构进行转动的驱动机构；所述支撑台的顶面上位于所述旋转机构的内侧设置有用于照射坩埚的光照机构；所述支撑台的顶面上对应所述光照机构设置有CCD视觉检测机，用于采集坩埚的表面图像进行检测对比。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司;博宇(朝阳)半导体科技有限公司;博宇(天津)半导体材料有限公司 一种坩埚表面缺陷检测装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD