申请/专利权人：杰米纳蒂奥公司

申请日：2022-08-25

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117916668A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;H01L21/027;G03F7/004;G03F7/105;G03F7/09

优先权：["20210825 US 63/236,847"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：一种微制造的方法包括在基底上沉积包含第一化学标记物的第一抗蚀剂的第一层、由所述第一荧光化学标记物测量所述第一层的第一荧光强度、由所述第一抗蚀剂的第一层形成第一浮雕图案以及在形成所述第一浮雕图案之后由所述第一化学标记物测量所述第一层的第二荧光强度。然后，所述方法包括将溶解度转变剂沉积在所述第一浮雕图案上、将第二抗蚀剂沉积在第一浮雕图案上、使所述溶解度转变剂扩散到所述第二抗蚀剂中以提供所述第二抗蚀剂的溶解度转变区域、对所述第二抗蚀剂进行显影以使得所述第二抗蚀剂的溶解度转变区域被溶解并且使所述基底的一部分暴露以及由所述第一化学标记物测量所述第一层的第三荧光强度。

主权项：1.一种微制造的方法，所述方法包括：在基底上沉积第一抗蚀剂的第一层，其中所述第一抗蚀剂包含第一荧光化学标记物；由所述第一荧光化学标记物测量所述第一层的第一荧光强度；在测量所述第一层的第一荧光强度之后，由所述第一抗蚀剂的所述第一层形成第一浮雕图案；在由所述第一抗蚀剂的所述第一层形成所述第一浮雕图案之后，由所述第一化学标记物测量所述第一层的第二荧光强度；将溶解度转变剂沉积在所述第一浮雕图案上；将第二抗蚀剂沉积在所述第一浮雕图案上；使所述溶解度转变剂以预定距离扩散到所述第二抗蚀剂中以提供所述第二抗蚀剂的溶解度转变区域，其中所述第二抗蚀剂的所述溶解度转变区域与所述第一浮雕图案接界；对所述第二抗蚀剂进行显影，使得所述第二抗蚀剂的所述溶解度转变区域被溶解，从而在所述第一浮雕图案和所述第二抗蚀剂之间提供开口，其中所述基底的一部分被暴露；以及在对所述第二抗蚀剂进行显影后，由所述第一化学标记物测量所述第一层的第三荧光强度。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杰米纳蒂奥公司 用于局部化学暴露的优化

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