申请/专利权人：昆山丘钛微电子科技股份有限公司

申请日：2022-05-11

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN115002344B

主分类号：H04N23/95

分类号：H04N23/95;H04N23/76;H04N25/615

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.19#授权;2022.09.20#实质审查的生效;2022.09.02#公开

摘要：本发明公开了一种误差曲面拟合方法、装置、终端及介质，其中所述方法包括：获取摄像模组的拍摄分辨率和曝光像素组数，其中，每组所述曝光像素中所包括的各个像素点用于表征所述摄像模组在固定相位模式噪声误差标定中所对应形成的误差曲面；根据所述拍摄分辨率和所述曝光像素组数，确定每组所述曝光像素中的待拟合像素点；对每组所述曝光像素中的待拟合像素点进行高阶多项式拟合，得到对应的目标误差曲面。采用本发明，能解决现有技术中二阶误差曲面的阶数较低、无法准确表达阶梯状复杂曲面的技术问题。

主权项：1.一种误差曲面拟合方法，其特征在于，所述方法包括：获取摄像模组的拍摄分辨率和曝光像素组数，其中，每组所述曝光像素中所包括的各个像素点用于表征所述摄像模组在固定相位模式噪声误差标定中所对应形成的误差曲面；根据所述拍摄分辨率和所述曝光像素组数，确定每组所述曝光像素中的待拟合像素点；对每组所述曝光像素中的待拟合像素点进行高阶多项式拟合，得到对应的目标误差曲面；所述对每组所述曝光像素中的待拟合像素点进行高阶多项式拟合，得到对应的目标误差曲面包括：采用最小二乘法对每组所述曝光像素中的待拟合像素点，分别沿预设第一方向和预设第二方向进行高阶多项式拟合，得到对应的目标误差曲面，所述预设第一方向和预设第二方向为系统自定义设置的相互垂直方向。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 昆山丘钛微电子科技股份有限公司 误差曲面拟合方法、装置、设备及介质

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD