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【发明公布】一种光罩图案、光学邻近校正方法及装置_福建省晋华集成电路有限公司_202410095036.6 

申请/专利权人:福建省晋华集成电路有限公司

申请日:2024-01-23

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117930580A

主分类号:G03F1/36

分类号:G03F1/36;G03F1/38;G03F1/70

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:本发明提供了一种光学临近校正方法,包括:提供一目标版图,所述目标版图包括具有至少一拐角的图案,所述拐角包括两边;在所述拐角加入辅助版图,所述辅助版图具有一阶梯状边界;将所述辅助版图的至少部分的所述阶梯状边界合并,以获得修正图案,所述修正图案包括至少一边与所述图案的所述拐角的所述两边不平行的凸出部或凹入部;将具有所述凸出部或所述凹入部的所述修正图案输出至掩模板上。本发明通过将拐角的边先分割成多段,然后再将每段分割得到的边进行光学临近校正的方式,实现改善光罩上具有拐角的图案在曝光显影后所得到的实际图形与其目标设计值具有较大差异的目的。

主权项:1.一种光学临近校正方法,其特征在于,包括:提供一目标版图,包括具有至少一拐角的图案,所述拐角包括两边;在所述拐角加入辅助版图,所述辅助版图具有一阶梯状边界;将所述辅助版图的至少部分的所述阶梯状边界合并,以获得修正图案,所述修正图案包括至少一边与所述图案的所述拐角的所述两边不平行的凸出部或凹入部;将具有所述凸出部或所述凹入部的所述修正图案输出至掩模板上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 福建省晋华集成电路有限公司 一种光罩图案、光学邻近校正方法及装置

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