申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社

申请日：2021-07-08

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN115968391B

主分类号：C09D165/00

分类号：C09D165/00;H01L21/027;G03F7/26;G03F7/20;G03F7/16;G03F7/11;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/023;G03F7/004;C08L61/34;C08G61/02

优先权：["20200708 JP 2020-117602","20200715 JP 2020-121276","20200715 JP 2020-121088"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2023.05.30#实质审查的生效;2023.04.14#公开

摘要：一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源自选自由式1‑0、1A、及1B所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，所述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。

主权项：1.一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源自选自由式1-0、1A、1B及式1所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，所述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接， 式1-0中，Ar0表示亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚菲基、亚芘基、亚芴基、亚联苯基、二苯基亚甲基或亚三联苯基；R0为Ar0的取代基，各自独立地任选为同一基团或不同的基团，且表示氢原子、任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数2～30的炔基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、任选具有取代基的碳数1～30的酰基、任选具有取代基的碳数1～30的包含羧基的基团、任选具有取代基的碳数0～30的氨基、卤素原子、氰基、硝基、硫醇基、或杂环基，P各自独立地为氢原子、任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、或任选具有取代基的碳数2～30的炔基，X表示直链或支链的亚烷基，n表示1～500的整数，r表示1～3的整数，p表示正整数，q表示正整数， 式1A中，X为氧原子、硫原子、单键或为无桥接，Y为碳数1～60的2n价的基团或单键，R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、或任选具有取代基的碳数2～30的炔基，R01各自独立地为任选具有取代基的碳数6～40的芳基，m各自独立地为1～9的整数，m01为0或1，n为1～4的整数，p各自独立地为0～3的整数，式1B中，A为苯环或稠合芳香环，R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、或任选具有取代基的碳数2～30的炔基，m为1～9的整数， 式1中，R1为碳数1～60的2n价的基团或单键。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 组合物、树脂、非晶质膜的制造方法、抗蚀图案形成方法、光刻用下层膜的制造方法及电路图案形成方法

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