买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】一种具有双向周期孔结构吸波Si-C-N复相陶瓷及其制备方法_西北工业大学_202310623864.8 

申请/专利权人:西北工业大学

申请日:2023-05-30

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN116639996B

主分类号:C04B38/06

分类号:C04B38/06;C04B35/58;C04B35/622;C04B35/565;C04B35/584

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.26#授权;2023.09.12#实质审查的生效;2023.08.25#公开

摘要:本发明公开了一种具有双向周期孔结构吸波Si‑C‑N复相陶瓷的制备方法,首先采用化学气相浸渗法,在二维编织结构的碳纤维布上原位沉积一定厚度的Si3N4陶瓷,得到CfSi3N4复合材料;然后将其进行氧化处理,得到近空心管状编织结构的Si3N4C多孔陶瓷;接着依次沉积SiC纳米界面层作为电磁波损耗层,Si3N4陶瓷作为抗氧化保护层和阻抗匹配层,最后将残余的碳纤维氧化除碳得到具有双向周期孔结构的Si3N4SiCSi3N4SiCSi3N4复相陶瓷。本发明制备得到的Si3N4SiCSi3N4SiCSi3N4复相陶瓷存在双向周期孔结构、大量透吸波纳米异质界面和缺陷,在厚度仅为2.45mm时,使得复相陶瓷在X波段的平均有效吸收效能超过‑10dB,最强吸收达到‑24.5dB,而且制备工艺简单、材料热稳定性好、可操作性强,有利于制备室高温协同吸波复相陶瓷。

主权项:1.一种具有双向周期孔结构吸波Si-C-N复相陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:制备Si3N4多孔陶瓷;S11:采用化学气相浸渗法,在二维编制结构的碳纤维布上原位沉积1~2μm的Si3N4陶瓷基体,得到CfSi3N4复合材料;S12:在600~700℃下对CfSi3N4复合材料进行氧化处理,保温时间1~5h,得到具有双向周期性孔结构的Si3N4多孔陶瓷,所述Si3N4多孔陶瓷内部为氧化处理后不规则的碳纤维;S2:利用步骤S1中制备得到的Si3N4多孔陶瓷制备Si3N4SiCSi3N4SiCSi3N4复相陶瓷;S21:在步骤S1中得到的Si3N4多孔陶瓷上原位沉积90~200nm的SiC界面层,得到SiCSi3N4SiC复相陶瓷;S22:在SiCSi3N4SiC复相陶瓷上原位沉积300~400nm的Si3N4抗氧化层,得到Si3N4SiCSi3N4SiCSi3N4复相陶瓷;S3:利用步骤S2中制备得到的Si3N4SiCSi3N4SiCSi3N4复相陶瓷制备Si-C-N复相陶瓷;对步骤S2中制备的Si3N4SiCSi3N4SiCSi3N4复相陶瓷再次进行氧化处理,保温温度为600~700℃,保温时间至少为8h,除去复相陶瓷内部残留的碳纤维,得到具有双向周期孔结构的层状Si-C-N复相陶瓷。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西北工业大学 一种具有双向周期孔结构吸波Si-C-N复相陶瓷及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。