申请/专利权人:深圳市北朋创新技术有限公司
申请日:2023-08-23
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN220856021U
主分类号:G09F9/37
分类号:G09F9/37;H01F1/44;G09G3/34;G02F1/166;G02F1/1673;G02F1/16753;G02F1/1685
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.26#授权
摘要:本实用新型属于磁流体设备技术领域,本实用新型提供了一种磁流体形态控制装置及显示装置,包括磁体层、磁流体层和控制机构,其中,所述磁体层设置有阵列排布的磁体阵元,所述磁体阵元均具有第一位置和第二位置,所述磁体阵元处于所述第一位置时,该所述磁体阵元的磁场吸引所述磁流体层中的磁流体,所述磁体阵元处于所述第二位置时,该所述磁体阵元的磁场不吸引所述磁流体层中的磁流体,所述控制机构与所述磁体层可操作连接,所述控制机构控制至少一个所述磁体阵元置于所述第一位置。本技术通过将控制单元设置在能够任意移动的移动单元上,解决了现有技术中不能对磁流体形态进行精准控制的问题。
主权项:1.一种磁流体形态控制装置,其特征在于,包括磁体层、磁流体层和控制机构,其中,所述磁体层设置有阵列排布的磁体阵元,所述磁体阵元均具有第一位置和第二位置,所述磁体阵元处于所述第一位置时,该所述磁体阵元的磁场吸引所述磁流体层中的磁流体,所述磁体阵元处于所述第二位置时,该所述磁体阵元的磁场不吸引所述磁流体层中的磁流体,所述控制机构与所述磁体层可操作连接,所述控制机构控制至少一个所述磁体阵元置于所述第一位置。
全文数据:
权利要求:
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