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【实用新型】一种磁流体形态控制装置及显示装置_深圳市北朋创新技术有限公司_202322296336.4 

申请/专利权人:深圳市北朋创新技术有限公司

申请日:2023-08-23

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN220856021U

主分类号:G09F9/37

分类号:G09F9/37;H01F1/44;G09G3/34;G02F1/166;G02F1/1673;G02F1/16753;G02F1/1685

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.26#授权

摘要:本实用新型属于磁流体设备技术领域,本实用新型提供了一种磁流体形态控制装置及显示装置,包括磁体层、磁流体层和控制机构,其中,所述磁体层设置有阵列排布的磁体阵元,所述磁体阵元均具有第一位置和第二位置,所述磁体阵元处于所述第一位置时,该所述磁体阵元的磁场吸引所述磁流体层中的磁流体,所述磁体阵元处于所述第二位置时,该所述磁体阵元的磁场不吸引所述磁流体层中的磁流体,所述控制机构与所述磁体层可操作连接,所述控制机构控制至少一个所述磁体阵元置于所述第一位置。本技术通过将控制单元设置在能够任意移动的移动单元上,解决了现有技术中不能对磁流体形态进行精准控制的问题。

主权项:1.一种磁流体形态控制装置,其特征在于,包括磁体层、磁流体层和控制机构,其中,所述磁体层设置有阵列排布的磁体阵元,所述磁体阵元均具有第一位置和第二位置,所述磁体阵元处于所述第一位置时,该所述磁体阵元的磁场吸引所述磁流体层中的磁流体,所述磁体阵元处于所述第二位置时,该所述磁体阵元的磁场不吸引所述磁流体层中的磁流体,所述控制机构与所述磁体层可操作连接,所述控制机构控制至少一个所述磁体阵元置于所述第一位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳市北朋创新技术有限公司 一种磁流体形态控制装置及显示装置

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