申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2023-10-31

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117950275A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20221031 JP 2022-174673"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.30#公开

摘要：本公开涉及曝光方法、曝光装置以及用于制造物品的方法。曝光方法包括：作为曝光经由投影光学系统对批次中包括的多个基板在曝光处理的开始和结束之间执行曝光处理，基于曝光的曝光处理条件预测在曝光期间投影光学系统的光学特性的改变，基于预测的结果确定在曝光期间光学特性是否超过预定范围，以及在确定在曝光期间光学特性超过所述预定范围的情况下，在光学特性超过所述预定范围之前调整光学特性，其中在所述调整之后对所述多个基板中的至少一个或多个基板进行曝光。

主权项：1.一种曝光方法，包括：作为曝光，经由投影光学系统对批次中包括的多个基板在曝光处理的开始和结束之间执行曝光处理；基于曝光的曝光处理条件，预测在曝光期间投影光学系统的光学特性的改变；基于预测的结果，确定在曝光期间光学特性是否超过预定范围；以及在确定在曝光期间光学特性超过所述预定范围的情况下，在光学特性超过所述预定范围之前调整光学特性，其中在所述调整之后对所述多个基板中的至少一个或多个基板进行曝光。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 曝光方法、曝光装置以及用于制造物品的方法

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